Новая отечественная разработка позволит выпускать опытные образцы и небольшие партии специализированных микросхем, в том числе для космической и оборонной техники. Оборудование с проектной нормой 150 нанометров сейчас проходит испытания.
В отличие от традиционной фотолитографии, технология не требует фотошаблонов. Сфокусированный электронный луч напрямую формирует рисунок будущей микросхемы на кремниевой пластине, это ускоряет создание новых изделий и упрощает их доработку.
Установка подходит как для изготовления фотошаблонов, используемых в серийном производстве, так и для прямой записи схем на кремниевых пластинах. Для массового выпуска микросхем такая технология не предназначена. Если фотолитография переносит весь рисунок на пластину за один этап, то электронный луч формирует его последовательно, поэтому процесс занимает значительно больше времени.
Сейчас разработчикам предстоит подтвердить точность работы оборудования по всей площади пластины, а также обеспечить необходимое качество электронно-чувствительных материалов. Проект реализовал Зеленоградский нанотехнологический центр.
