Пекин продвигается к технологической независимости: в закрытой лаборатории в Шэньчжэне инженеры разработали прототип литографического станка с экстремальным ультрафиолетом (EUV), сообщает агентство Reuters со ссылкой на источники.
Новая установка занимает почти весь производственный цех и уже генерирует EUV-излучение — ключевой элемент в производстве самых передовых чипов для ИИ, смартфонов и вооружений. Пока машина не выпускает полноценные чипы, но ее существование опровергает оценки западных аналитиков, считавших, что Китаю потребуется не меньше десятилетия, чтобы догнать США и их союзников.
Станок создала группа бывших инженеров голландской ASML, которые работали под псевдонимами и подписывали соглашения о неразглашении. Работа шла в обстановке высокой секретности с 2019 года. По данным Reuters, проект курирует близкий к Си Цзиньпину чиновник Дин Сюэсян, а Huawei координирует цепочку поставок.
Китай поставил цель начать массовое производство чипов на базе новой машины к 2028 году, но более реалистичный срок — 2030-й. В Пекине сравнивают программу с «Манхэттенским проектом» — так в США в 1940-х годах создавали атомную бомбу.
Фото: REUTERS
